Este objetivo destaca su gran capacidad de estabilización y un autoenfoque, siendo de 4 o 5 pasos menos en la velocidad de obturación en lo primero y un tiempo de solo 0,28s en lo segundo. Su construcción metálica destaca en el diseño, ofreciendo un aspecto realmente robusto.
Aunque su apertura (entre f/3.5 y f/4.8) no es muy luminosa resulta suficiente para un uso avanzado. Su alta velocidad de enfoque se debe a que incorpora dos motores lineales que le permiten funcionar además bastante silencioso, lo cual, todo ello hace pensar que se trata también de un objetivo adecuado para la grabación de vídeo. Su distancia mínima de enfoque es de 1,1m y presenta un anillo de diafragma de 1/3 EV.
En cuanto a su construcción óptica incorpora dos lentes de dispersión extrabaja (ED), incluida una lente Super ED que ofrece un rendimiento equivalente a las lentes de fluorita, y especialmente adecuada para reducir la aparición de aberraciones cromáticas habituales en las longitudes focales largas. Además cuenta con revestimiento HT-EBC en toda la superficie de la lente para evitar los reflejos, destellos y flares.
Junto con el lanzamiento del objetivo XF55-200 mm F3,5-4,8R LM OIS, FUJIFILM actualizará el firmware de las cámaras X-Pro1 y X-E1. Gracias a un nuevo algoritmo, el firmware aprovechará al máximo las capacidades del objetivo, ya que permitirá a ambas cámaras buscar rápidamente el AF por contraste en toda la gama de longitudes focales
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